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真空镀碳仪
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产品: 浏览次数:17真空镀碳仪 
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有效期至: 长期有效
最后更新: 2024-10-23 14:01
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详细信息
真空镀碳仪为SEM、TEM、STEM、EDS/WDS、EBSD和微探针分析提供高质量的镀膜技术。产品结构紧凑,所占空间小。样品室直径150mm,可快速抽真空进行镀膜处理,处理周期约10分钟。高真空条件下使用超纯的碳棒为严格的高分辨扫描电镜、透射电镜、EBSD及探针分析提供高质量的镀膜处理。组件设计方式可方便地对不同优化条件下的各种应用进行切换。

真空镀碳仪的应用领域非常广泛。
1、在航空航天领域,真空镀碳技术被广泛应用于飞机发动机叶片、燃烧室等部件的表面处理。
2、在汽车工业中,真空镀碳技术也被用于汽车发动机活塞、气门等关键部件的表面强化。
3、在电子工业、光学仪器、医疗器械等领域发挥着重要作用。

主要特性:
1、受反馈控制的碳棒蒸发系统可以在膜厚大约20nm左右进行多次蒸发,无须切削或调整碳棒形状;
2、108C中使用的高纯碳棒可以在高倍条件下得到高质量的镀膜效果。该镀膜系统结构紧凑,容易操作,抽真空周期短;
3、使用新型的蒸发装置:电流和电压通过磁控头的传感线监控,蒸发源作为反馈回路中的一部分被控制。该蒸发装置使常规的碳棒具有优良的稳定性和重现性。功率消耗低,碳棒具有优异的重新蒸镀特性。蒸发源可以通过脉冲或连续的方式操作;
4、可选择手动或自动方式操作;
5、自动模式下,蒸发源按程序设定的电压和时间进行喷镀。手动模式下,设计允许以脉冲或连续的方式操作,并通过旋钮控制输出电压。

更多产品信息来源:https://www.chem17.com/st113965/list_1573615.html
https://www.chem17.com/st113965/product_28493218.html
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